硅片酸洗工艺中的防腐利器

硅片的酸洗工艺是半导体制造过程中的重要环节，用于去除硅片表面的杂质和氧化物。然而，酸洗过程中会产生废水和设备腐蚀的问题, 为了解决这些问题，选择合适的防腐涂料进行防护变得尤为重要。

在硅片的清洗、制绒、扩散制结、刻蚀等工序中会使用硝酸、氢氟酸、强碱，会产生大量的含氟酸性废水，污水池中的污水成分较为复杂，且都可能被氟离子污染。F是一种非金属化学元素，属于卤素，氟是已知物质中氧化性最强的物质之一。F的原子半径极小，具有强烈的得电子倾向，能渗透金属表面形成的氧化膜，自身参与的反应很少有沉淀产生，且F单质可与水反应生成氢氟酸，因此，F-的腐蚀是目前世界上最为头疼的腐蚀之一。

混凝土结构的污水池，，HF酸会轻松破坏混凝土层，造成大面积渗漏。ZS-1033耐氢氟酸防腐涂料，酚醛树脂嫁接氟离子改性而成为成膜溶液，以重晶石、鳞片状石墨等为填料，形成的涂层致密性高，具有优良的化学稳定性，可以有效阻止氢氟酸分子和离子的渗透。对于污水池和金属设备的防护是一种有效的防腐涂层。

这种涂料能够广泛应用于各种需要抵御氢氟酸腐蚀的场合，如石英砂酸洗池、金属酸洗设备、含氟废水池以及高温含氟烟气管道等，为设备提供长期的防腐保护，延长其使用寿命，减少维修和更换的频率。